等离子清洗机


产品介绍
等离子清洗机通过辉光放电产生的等离子体,其中的高能电子、离子、自由基等活性粒子能够与污染物发生物理碰撞或化学反应,将污染物分解为挥发性气体(如 CO₂、H₂O 等),并通过真空泵排出,从而实现对光学元件表面的高效清洁。
常压:等离子表面处理机由等离子发生器,气体输送管 路及等离子喷头等部分组成。等离子发生器产生高压高频能量在喷嘴钢管中被激活 和被控制的辉光放电中产生低温等离子体。等离子体中粒子能量一般约为几个至几十电子伏特,大于聚合物材料的结合键能,完全可以破裂有机大分子的 化学键而形成新键,但远低于高能放射性射线,只涉及材 料表面,不影响基体的性能。处于非热力学平衡状态下的低温等离子体中,电子具 有较高的能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高粒 子的化学反应活性(大于热等离子体),而中性粒子的温度 接近室温,这些优点为热敏性高分子聚合物表面改性提供 了适宜的条件。
低压:等离子清洗/刻蚀机产生等离子体的装置是在密封容 器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定真空度。随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由 运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成 等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所 有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应。不同气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的 等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应,生成气 体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很 好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。
适用场景
光学行业:光学镜片、镜头的油污及指纹去除,避免传统清洗划伤表面;
电子制造:PCB 电路板表面活化、去除助焊剂残留,半导体芯片封装前的精密清洁;
医疗器械:手术器械、植入体(如人工关节)的灭菌与表面改性,提升生物相容性;
汽车工业:汽车灯具、传感器等部件的表面清洁与活化,增强涂层附着力;
新材料领域:高分子材料、复合材料的表面处理,改善其粘接、印刷性能;
包装行业:塑料薄膜、金属箔等包装材料的表面活化,提升印刷或复合牢度
产品规格
| 设备型号 | SF-XSL | SF-XSM |
设备尺寸 (mm)L*W*H | 1600mm*2100mm *1750mm | 800mm*1600mm *1700mm |
内部腔体容积 | 200-2000L | 20-200L |
| 等离子输出功率 | 0-20KW可调 | 0-10KW可调 |
| 电源工作频率 | 40KHZ/13.56MHZ | 40KHZ/13.56MHZ |
| 放电真空度 | 30-500Mterr | 30-500Mterr |
| 设备重量 | 3000KG | 1500KG |
本设备可根据不同的产品规格、产能设计开发、生产制造。


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